铁磁性物质(这里指常说的磁铁,永磁体)颗粒大小和磁性的关系。我们在no.66 q5中曾从磁畴的角度提过磁化的本质。同一磁体中有许多磁畴,而磁畴间自发强度大小相同方向不同,磁化的过程就是在外磁场作用下,使不同磁畴内的原子磁矩向同一个方向排列,此时磁体就有了磁性。
磁化强度从一个方向翻转到另一个方向需要克服一个势垒(磁各向---能),而这个势垒是和颗粒的体积(尺寸)成正比的。而对于每个孤立自旋,它会受到热扰动的影响。这两种能量相互竞争,在固定温度下,当它俩大小相近时,就达到了我们所谓的临界尺寸(类似的,也存在对应的特征温度)。此时热扰动---影响磁化强度取向时,自旋会因为热激发,不断地随机振动,此时这种粉末不再表现出铁磁性,浸泡式渗镝渗铽工艺,而是超顺磁性。即在没有外磁场下,不表现出磁性,而施加外场时,则类似顺磁性。超顺磁相比铁磁,其特点一是没有磁滞,意味着没有剩余磁化强度和矫顽力;二是如果以磁化强度为纵坐标,磁场强度和温度的比值为横坐标,这样的曲线永远是重叠的。
焦磷酸盐镀铜的问题
焦磷酸盐镀铜是1997年开始在钕铁硼电镀行业使用的,目前存在如下问题。
溶液浓度高,铜离子含量18g/l以上,溶液波美度35左右,溶液黏度大,则生产过程中带出量大,流程清洗复杂,适合手动线生产,不易用于自动线生产。
溶液参数变化快,渗镝渗铽价格,而工艺要求的参数范围窄(焦磷酸根与铜离子的比例关系为7.5~8.8之间),则工艺参数控制难度相应提高。
主要控制元素焦磷酸根分析难度大、准确度低,则往往无法准确判断焦磷酸根与铜离子的比例关系是否在正常范围内。
焦磷酸盐镀铜工艺应用面窄,光亮剂生产厂家少,光亮剂技术不是十分成熟,使得光亮剂的添加控制难度远高于镀镍。
总之,渗镝渗铽,焦磷酸盐镀铜工艺往往难以实现---控制,总是在出现镀层问题后,依靠经验调整恢复,而难以通过分析溶液参数及时补加调整,恢复溶液的工作稳定,所以易造成生产事故现象多发。
2. 柠檬酸盐镀铜的问题钕铁硼柠檬酸盐镀铜是2003年后开发应用的新工艺,在其他行业使用很少,几乎属于磁铁行业---镀铜工艺。该工艺也存在分析困难、控制手段欠缺等难题,但更主要的是溶液生菌问题,若处理措施不当,往往使工件表面光亮度产生局部发蒙,从而影响产品。
3. 以上两种工艺存在的共同问题焦磷酸根、柠檬酸根都是铜离子的弱络合剂,则两种工艺都会对底镍层(厚度、覆盖性、漏镀等)要求较高,否则会产生置换铜现象而影响镀层结合力,渗铽渗镝工艺应用,并将镀铜液污染。目前生产中钕铁硼滚镀焦铜溶液稳定性相对(钢件滚镀焦铜)稍差,说明钕铁硼基体逐渐受到焦铜溶液腐蚀,产物将溶液污染。
一般,钕铁硼镀铜采用以上两种工艺生产,均要求底镍层平均厚度不低于4~5μm,以---底镀层覆盖完全,避免产生置换铜现象。但底镍层过厚增加了总镍层厚度,这尤其对小尺寸产品的磁屏蔽作用较明显,磁体磁性能大幅衰减。
钕铁硼镀层与基体的结合力差,是曾经困扰钕铁硼电镀的几大难题之一,虽然经过多年的发展这个问题已得到较大程度的解决,但生产中这样的问题总会或多或少地存在,有时甚至还挺---,所以有---拿出来说一说。俗---,“世上常事,但凡有因果”,---,钕铁硼镀层结合力也不例外,其“差”做为“果”必有其“因”,而且可能还是“多因”。那么,都是哪些因素在影响钕铁硼镀层的结合力呢?相对于普通钢件,钕铁硼材质表面有如下特殊的物理和化学性质:(1)表面粗糙、疏松多孔(物理性质);(2)化学活性极强(化学性质),可以说,影响钕铁硼镀层结合力的诸多因素均直接与这两条性质有关。
1、镀前处理
金属制品的镀前处理应做到使其表面洁净、无油污、无锈蚀,否则将难以获得结合力---的镀层。相对于普通钢件,钕铁硼产品的镀前处理难度要大一些,原因在于其粗糙、疏松多孔的表面容易“藏污纳垢”,若不将这些“污垢”---清除干净,则会对钕铁硼镀层与基体的结合力造成不利影响。早些年,钕铁硼镀层结合力---很大程度上因镀前处理不当(或不---)而造成。目前,钕铁硼镀前处理一般采用多道超声波清洗,因为超声波的空化作用利于使钕铁硼微孔内的油污、酸碱等物质得到---清除,否则会因微孔内的“污垢”清洗不净影响镀前处理,影响镀层结合力,这一点十分重要。另外,超声波清洗还利于清除钕铁硼在酸洗时表面产生的硼灰,进一步消除结合力---。钕铁硼采用超声波清洗有以下几点注意事项。
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